スクリーンマスク・メタルマスク
基板検査装置
真の『欠陥』だけを捉える」
目視検査の限界を超え、次世代の微細パターン検査を自動化します。
マスク基板の外観検査が難しい構造的要因
■ メッシュ構造の複雑さ
スクリーンマスクのベースとなるメッシュ自体が網目構造をしており、印刷パターン（開口部）と背景のメッシュパターンが重なり合って見えます。メッシュの素材（ステンレスやポリエステル）や太さ、織り方によって光の透過や反射が複雑になります。
■ 微細なパターンと高精細化
電子部品の小型化・高密度化に伴い、スクリーンマスクのパターンも微細化しています。線幅が数マイクロメートルレベルになることも珍しくなく、自動検査装置でも高い分解能と特殊な画像処理技術が必須となります。
多様な欠陥の種類による検出の難しさ
開口部の形状不良
オープン、ショート、突起、欠け、残乳剤（残銅）などの形状不良。パターンの微細化に伴い、わずかな異常も製品不良に直結します。
異物と汚れ
メッシュや乳剤、金属膜に付着した異物。特に透明な異物は通常の照明では検出が非常に困難です。
ピンホールと目詰まり
乳剤部分に空いた小さな穴や、開口部が部分的にインクで詰まる「目詰まり」は、特に検出が難しい欠陥です。
メッシュの損傷
糸切れ、ゆがみ、たるみなどのメッシュ自体の損傷。これらは通常のパターン検査では見逃されやすい項目です。
ソフテックの独自ソリューション
長年の経験に基づく
高度な画像処理アルゴリズム
多年の経験により、メッシュの影響（ノイズ）を完全に排除し、パターン欠陥のみを正確に抽出する画像処理エンジンを搭載しています。
- メッシュの網目パターンを分離する処理
- 開口部との位置関係や形状変化を捉える技術
- 微細な欠陥を極限まで強調する画像強調処理
これらの処理をリアルタイムで実行するため、膨大な計算処理を最適化し、高速な検査タクトを実現しています。
AI活用 ハイブリット型検査装置
スクリーンマスク基板の外観検査技術は、AIと光学技術の融合によって急速に進化しています。
当社では、ディープラーニングを活用したハイブリット型AI検査装置の開発を行っております。
AIシステムの前提となる「質の高いデータセットの準備（アノテーション、データ拡張）」からサポート。データ偏りによる特定状況下での精度低下を防ぎ、バランスの取れた運用環境を構築します。
製品ラインナップ
高速検査モデル
「検査時間を1秒でも早く」を実現するリニアモータ搭載機
| 駆動軸 | X1, X2, Y（リニアモータ） Z（ステップ） |
|---|---|
| 最大ワークサイズ | 横 800 × 縦 800 mm |
| 最大検査エリア | 600 × 600 mm |
| 推奨カメラ | 12M ～ 45M ピクセル |
| 最小検出NG (12M) | 6 ～ 8 μm |
| 最小検出NG (45M) | 3 ～ 5 μm |
| 装置OS | Windows 11 |
卓上検査モデル
省スペースとコストパフォーマンスを重視した設計
| 駆動軸 | X, Y, Z（ステップ） |
|---|---|
| 最大ワークサイズ | 横 400 × 縦 440 mm |
| 最大検査エリア | 300 × 300 mm |
| 推奨カメラ | 5M ～ 12M ピクセル |
| 最小検出NG (5M) | 15 ～ 25 μm |
| 最小検出NG (12M) | 6 ～ 8 μm |
| 装置OS | Windows 11 |
特注品製造風景
お客様のワークサイズや検査要件に合わせた、完全オーダーメイドの装置開発も承っております。
